反応性イオンエッチングシステム 半導体 シリコンベース材料 エッチング インジウムリン 常温エッチング RIE故障解析

カスタマイズ可能なサンプルサイズ：4インチ、8インチ、12インチに加え、様々な小型サイズに対応しており、カスタマイズオプションも用意されています。

柔軟な高周波出力：高周波プラズマ出力は300Wから1000Wまで対応しており、複数のオプション構成が可能です。

マルチガス対応：最大9種類のプロセスガスを同時に使用可能で、カスタムガスチャネルオプションも用意されています。

多様な材料のエッチング：シリコン、III-V化合物、II-VI化合物、金属、有機材料、およびグラフェンなどの2次元材料に対応します。

1年間の保証：12ヶ月間の保証が付いており、保証期間終了後も部品は原価で交換可能です。

CE認証：本製品は、半導体製造におけるCEの安全および品質基準を満たしています。

完全自動制御：ワンボタンで完全自動制御が可能なシステムを搭載しており、操作が容易です。