半導体分析用の立体金属顕微鏡

インフィニティ光学システム：平行な光路により、アクセサリーを追加しても歪みや倍率のずれがなく、安定した画像が得られます。

デュアル光路設計：透過光と反射光の両方をサポートし、透明、半透明、不透明な試料の観察が可能です。

高倍率・高解像度：最大1000倍までの高倍率で、ミクロンレベルの解像度を実現し、金属組織の詳細な分析やウェハの検査に適しています。

モジュール式光学アクセサリー：偏光板、分析器、フィルターなどを簡単に着脱でき、不要な光を排除し、画像のコントラストを向上させます。

広視野目レンズ：PL10X 22mmの広視野目レンズを採用しており、反射防止コーティングにより、長時間の観察時の目の疲れを軽減します。

精密フォーカスシステム：同軸式の粗調整と微調整機能を備え、0.002mmの微細な分割値で、極めて精密な位置決めが可能です。

幅広い用途：金属組織観察、半導体検査、PCB分析、大学の研究室など、様々な分野で活用できます。

1年間の保証：機械的な欠陥については1年間保証します。保証期間後、人為的な損傷や異常な使用による損傷は保証対象外となります。